防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蝕預處理系統的特殊性

    用于在納米壓印光刻中在脫模期間降低表面粘附力。脫模劑全氟癸基三氯硅烷FDTS或全氟辛基三氯硅烷PFTS.

  用硅 烷 偶聯劑（如HMDS/KH550、FDTS、PFTS、OTS），廣泛應用于電子、光學、醫藥等領域，如用作半導體器件的防潮、光學器件的防污等。

防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蝕預處理系統的結構

真空性能：極限真空50pa（可定制）

產品處理空間：20-3000L支持定制）

防腐配置：防腐型HMDS真空烘箱采用防腐型材料內腔，防腐專用真空泵，防腐專用閥門。

溫控性能：200/400℃，±0.5℃波動度

真空性能：極限真空50pa（可定制）

操控方式：配置進口精密PID智能溫控器、彩色觸摸屏人機界面+PLC,

配方性能：5組配方儲存，可實施修改編輯，可擴展多配方

產品兼容性：1-12晶圓及方片、藍寶石、1000*1000mm玻璃、面板、陶瓷纖維板材及各種卷材，20-3000L支持定制。

儲液瓶：25-1000ml儲液瓶

真空泵：防腐專用無油渦旋真空泵

數據處理：數據可記錄、MES通訊、上位機連接等

功能：去水烘烤、（抗抗劑）偶聯劑涂布、蒸鍍固化、廢氣排放工藝基于一體。

更多用途,半導體制造/納米壓印光電面板處理/陶瓷新材料/納米多孔陶瓷材料/碳纖維材料/碳化硅材料等新型復合材料。